
注: 本报价不代表任何一款产品的价格,我们会根据客户所要求的配置与型号再进行报价;

电子工业用超纯水概述
电子工业中,生产单晶硅半导体材料、半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。 电子级水共分五个级别,部分指标如下:
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设备特点:
设备通常由多介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
典型工艺流程:
● 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
● 预处理-一级反渗透-二级反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM) (新工艺)
● 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)
水质标准:达到美国SEMI标准和国家电子级纯水标准
指标 | 级别 | EW-Ⅰ | EW-Ⅱ | EW-Ⅲ | EW-Ⅳ | EW-Ⅴ |
电阻率 MΩ.cm(25℃) | 18 90%时间 最小17 | 15 90%时间 最小12 | 10 90%时间 最小8 | ≥2 | ≥0.5 |
大于1μm微粒数,最大值,个/ml | 1 | 5 | 10 | 100 | 500 |
大于0.5μm微粒数,最大值,个/ml | 100 | 300 | 500 | 1000 | 2000 |
细菌个数,最大值,个/ ml | 1 | 5 | 10 | 50 | 100 |
总有机碳含量,最大值 | 50 | 100 | 200 | 1000 | 5000 |
二氧化硅总含量,最大值 | 2 | 20 | 50 | 100 | 1000 |
应用领域:
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
2、超纯材料和超纯化学试剂;
3、实验室和中试车间;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、光电产品;
6、其他高科技精微产品





零缺陷: 不留缺陷,追求卓越,第一次就把事情做正确,决不允许有错误,设备上选用的任何一个零件,都是经过严格检验并结合多年来的实践证明其可靠稳定.
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