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半导体用快排清洗槽QDR-清洗槽QDR半导体用快速清洗排水槽Quick Dump Rinse Tank.可承载双6寸晶圆片盒，上、下进水，360度溢流，气动快排阀。可配接0.3mm,0.5mmN2鼓泡发生器N2 Bubbler。
主要用于半导体、太阳能光伏行业的湿制程，硅片酸洗碱洗之后的纯水净化处理，高效净化，去除硅片表面的药液、杂质等残留物。
非标准化设备，所有设备参数均根据客户的具体需求定制设计！请与客服联系
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